Park NX-Hybrid WLI是一种集成的、首创的AFM，内置白光干涉仪，满足从前端到先进封装和研发计量的各种半导体制造需求。它非常适合高通量、大面积测量，能够以亚纳米分辨率和卓越精度放大至纳米级区域。
在半导体行业，设备封装在决定现代设备的性能、尺寸和可靠性方面起着关键作用。随着制造商努力满足更小、更强大半导体的需求，他们面临着复杂的组件集成、有效的热管理、材料兼容性以及在更高频率下保持电气完整性等挑战。Park 原子力显微镜解决方案直接应对这些挑战。凭借其先进的精度和分析纳米结构的能力，Park AFM工具使制造商能够应对先进设备封装的复杂性。
Park NX-Hybrid WLI是一款内置WLI轮廓仪的创新型AFM，用于半导体及相关制造质量保证、半导体前端、后端到高级封装的工艺控制和研发计量。它适用于需要大面积高通量测量的用户，能够以亚纳米分辨率和高精度放大至纳米级区域。
Park NX-Hybrid WLI是首个内置WLI轮廓仪的AFM，用于半导体及相关制造质量保证、半导体前端、后端到先进封装的工艺控制和研发计量。它适用于需要大面积高通量测量的用户，能够以亚纳米分辨率和超高精度放大至纳米级区域。
LED或卤素灯等白光作为光源，通过各种透镜照射到样品上。当样品用该光束扫描时，由于扫描期间的光干涉，会产生光强度变化。利用这一原理，WLI计算每个点的表面高度，生成表面地形图。
白光干涉（WLI）和原子力显微镜（AFM）是用于半导体计量的两种最佳互补技术，WLI提供快速、广域光学成像以实现高通量测量，而AFM则提供最高的纳米级分辨率，即使对于透明材料也是如此。
Park NX-Hybrid WLI支持WLI和PSI模式，具有用于PSI模式的电动滤光片更换器和自动化电动线性透镜更换器，可在两个物镜之间快速切换。可用放大倍率包括2.5倍、10倍、20倍、50倍和100倍，可根据不同的测量需求自动更换透镜。
Park NX-Hybrid WLI快速调查热点，并通过比较参考样品区域和目标样品区域之间的图像自动审查热点缺陷，实现高速“热点检测”。这有助于快速定位缺陷位置，以进行详细的高分辨率AFM审查。
