FX40 with monitor

Park NX-3DM

用于高分辨率3D计量的自动化工业原子力显微镜

创新的Park 3DM自动AFM系统,通过其独特的解耦XY和Z扫描以及倾斜的Z扫描仪,在悬垂轮廓、侧壁成像和关键角度测量方面表现出色。它有效地解决了侧壁分析中正常和扩展尖端方法的局限性。该系统的True Non-Contact Mode™允许使用高纵横比尖端对软光刻胶表面进行非破坏性测量。

用于高分辨率3D计量的自动化工业原子力显微镜

Park Systems推出Park 3DM系列,这是专为悬垂轮廓、高分辨率侧壁成像和关键角度测量而设计的全自动化AFM系统。该系统采用了创新的解耦合XY和倾斜Z扫描系统,克服了常规和扩展探针方法在侧壁分析中的挑战。通过使用我们的True Non-Contact Mode™,Park 3DM系列能够以非损性的方式测量软性光刻胶表面,搭配高长宽比探针。

自动测量控制以提高效率

  • 创新的Z扫描系统

    NX-3DM的许多强大的功能得益于其个性化的消除串扰平台,通过独立倾斜Z扫描器,XY和Z扫描器完全解耦。这种设计允许用户以各种角度访问垂直侧壁和凹口结构。与采用扩展探针系统不同,这里可以使用高分辨率和高纵横比探针。

    创新的Z扫描系统
  • 侧壁粗糙度测量

    NX-3DM的创新头部倾斜设计使得可以使用尖锐探针访问侧壁,以获取高分辨率、清晰定义的区域细节及其粗糙度。

    侧壁粗糙度测量
  • 关键尺寸测量

    真正非接触模式使得在不损害仪器和样品的情况下使得CD(Critical Dimension)测量成为可能,同时保证了图像的准确度。

    关键尺寸测量

全自动化

Park NX-3DM是一个与无尘室兼容的全自动纳米尺度测量与分析系统,利用NX技术构建高精度的形貌图像并收集关键的尺寸数据。其行业前沿的低噪声Z探测器采用独立闭环操作,以微小化形貌学误差,减轻“蠕变效应”。通过其真正非接触模式,它能够在不损害探针-样品的情况下收集高分辨率和精准的数据,从而节省宝贵的时间和资源,避免因昂贵的维修或调整而造成的损失。

创新扫描头设计

Park NX-3DM中Z扫描头的个性化侧向定位有助于访问光刻胶等材料中的悬挂结构和凹槽,其创新的XY和Z扫描系统解耦合以及倾斜的Z扫描器,使用户能够克服传统方法中常见的准确侧壁分析挑战。该系统能够测量侧壁沟槽线剖面、粗糙度、临界角和临界尺寸。此外,Z扫描头的倾斜机制利用锐利的探针访问侧壁,确保在整个材料表面获得相同的高分辨率和清晰度。

无缝的三维材料测量

在由Park NX-3DM实现的过程中,无需进行样品切割、安装或涂覆等准备工作,即可获取侧壁粗糙度或关键尺寸的测量数据。通过利用Z头倾斜和True Non-contact™模式,实现了既能保护探针又能高分辨率地收集侧壁数据的效率。

Applications

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