对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析，从而加快缺陷的检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接进行连接，这就意味着自动缺点检查通量会大幅提高。此外，Park NX-HDM拥有精准的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内较低的本底噪声和True Non-Contac技术，Park NX-HDM是目前市面上表面粗糙度测量较为精准的原子力显微镜。
Park Systems 自动化 AFM 旨在在晶圆加工计量学方面表现出色，提供用于关键测量和分析任务的精确工具集。这些先进系统促进了半导体晶圆加工所需的详细计量，提供一致、准确和广泛的数据，支持改进制造工艺和产品质量。设计与现有处理线无缝集成，它们为半导体生产工程和质量保证提供了强大的解决方案。
对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析， 从而加快缺陷的检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接进行连接，这就意味着自动缺点检查通量会大幅提高。
NX-HDM 配备了自动化软件，使操作几乎毫不费力。只需选择所需的测量程序，即可通过优化的悬臂调谐、扫描速率、增益和设定点参数设置获得精确的多点分析。Park 的用户友好型软件界面为您提供创建自定义操作流程的灵活性，使您能够充分利用 NX-HDM 的强大功能并获得所需的测量。创建新流程非常简单。从头开始创建一个新流程大约需要10分钟，修改现有流程不到5分钟。
NX-HDM的自动缺陷检查功能(Park ADR)可加速和改良媒介和基体缺陷的识别、扫描和分析流程。借助光学检查工具所提供的缺陷位置图，Park ADR可自动定位这些位置并进行成像（分两步）： (1) 缩小扫描成像，以准确定位缺陷。 (2) 放大扫描成像，以获取缺陷的细节。在真实缺陷测试中，我们可以看到相比于传统的方法，该自动功能可将缺陷检查通量提高10倍。
经过优化的扫描参数让两步式扫描更为快速： (1) 快速的低分辨率搜寻式扫描，来准确定位缺陷。 (2) 高分辨率的放大扫描，来获取缺陷的细节。可调节的扫描尺寸和扫描速度参数能满足用户的所有需求。
借助专有的先进映射算法，从自动光学检测(APO)工具中获取的缺陷坐标图可准确地传入和映射至Park NX-HDM。该技术让全自动高通量缺陷成像成为可能。
业内对于超平面介质和基底的要求越来越高，所以需要满足设备体积不断减小的需求。此外，Park NX-HDM拥有精准的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内较低的本底噪声和True Non-Contact技术，Park NX-HDM毫成为市场上表面粗糙度测量较为精准的原子力显微镜。
